新设备：玻璃曝光设备： 制造商：日本制造商
概要：高精細露光に*適化た独自UV光学系とフォトマスクとウエハを高精度に平行出しできるメカニズムを採用、バキュームコンタクト，ソフトコンタクト，プロキシミティーまで対応したた全自動露光装置 特注対応可能、※G5以上の大サイズマスクには縦型をご提案、※G4.5以下のマスクには水平型をご提案
用途：CF TP FPD全般
仕様：、対応基板サイズ：G4.5-G8.5、基板 Size：G4.5-G8.5、アラメント精度：±1μm
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